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2月21日讯,据国外媒体报道,三星宣布,其新的EUV(远紫外线)半导体生产线已开始大规模生产,该生产线将为客户生产7纳米或更小的芯片。
该新V1生产线位于该公司在韩国华城的工厂,是第一条专门用于EUV光刻技术的生产线。三星表示,公司将使用7纳米及以下工艺节点生产芯片。该公司还将采用7纳米和6纳米工艺生产移动芯片,并计划最终生产小至3纳米的芯片。
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