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中微半导体设备（上海）股份有限公司，今日宣布推出Prismo HiT3? MOCVD设备，主要用于深紫外LED量产。该设备目前已进入全球大多数领先的蓝绿光LED制造商，此次推出的Prismo HiT3?是中微Prismo系列MOCVD设备的最新产品。是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备，反应腔最高温度可达1400度，具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计，单炉可生长18片2英寸外延晶片，并可延伸到生长4英寸晶片。（科创板日报）
原文标题：【中微半导体设备（上海）股份有限公司】中微公司发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3?
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